Canon представляет литографическую машину для производства чипов с 5 нм техпроцессом

В области производства высокотехнологичных чипов голландская компания ASML долгое время занимала лидирующие позиции. Тем не менее, инновационная литографическая технология от Canon готова предложить серьезную конкуренцию.

В пятницу японский гигант Canon, широко известный своими профессиональными камерами, анонсировал новую технологию на основе наноштамповой литографии (NIL). По заявлениям компании, эта технология позволит создавать элементы с техпроцессом вплоть до 5 нм. С учетом дальнейших исследований Canon планирует достичь производства элементов с 2 нм техпроцессом, обеспечив высокое качество и минимальные дефекты.

Технология Canon на основе наноштамповой литографии (NIL) представляет собой серьезную конкуренцию ультрафиолетовой литографии (EUV) от ASML. Отличительной особенностью NIL является ее независимость от сложных оптических систем и зеркал, используемых в EUV. Это может позволить Canon обходить американские экспортные ограничения на передовое оборудование для чипов, предназначенное для Китая.

Принцип работы технологии Canon заключается в применении маски с нанесенным дизайном на резистивный слой кристалла, аналогично процессу печати. Как подчеркнула компания, это позволяет создавать сложные двух- и трехмерные схемы одним движением.

Тем не менее, несмотря на амбициозные заявления Canon о техпроцессе до 5 нм, аналитик из Gartner Гаурав Гупта высказал опасения. Он заметил: "Было бы удивительно, если бы Canon действительно совершила прорыв". Гупта также добавил, что реальные изменения на рынке стоит ожидать не раньше, чем через пять лет, и акцент будет сделан на технологии памяти.

Однако, если технология проявит себя как эффективное решение для создания новейших логических схем, Гупта предполагает, что на ее экспорт в Китай могут быть наложены ограничения.