Китайский путь обхода санкций: ускоритель частиц как ключ к лидерству в полупроводниковой индустрии

Китай планирует построить гигантский завод по производству микросхем с использованием ускорителя частиц, что может стать прорывом в обход американских санкций и вывести страну на лидирующие позиции в полупроводниковой индустрии. Эта инновация обещает высокий объем производства при низкой стоимости и потенциально может усилить позиции Китая в индустриальном производстве передовых микросхем, известных как 2-нанометровые чипы.

Текущие системы литографии, используемые для производства микросхем, являются одними из самых сложных механизмов, созданных человеком. На данный момент широко используется экстремальное ультрафиолетовое (EUV) излучение с ультракороткой длиной волны для производства чипов с 7-нанометровыми узлами и ниже. Компания ASML единственная владеет данной технологией и доминирует на рынке. Однако китайские ученые исследуют альтернативный путь, который был начат в 2017 году и получил широкое признание после прорывов Huawei в производстве микросхем.

Проект под руководством профессора Тан Чжуаньсяна из Университета Цинхуа исследует новый механизм люминесценции, названный устойчивым микробанчингом (steady-state microbunching, SSMB). Эта теория использует энергию, высвобождаемую заряженными частицами во время ускорения, в качестве источника света. Результатом является узкополосное, малорассеивающее и непрерывное чистое EUV-излучение. Технология обещает высокую выходную мощность в 1000 Вт, что значительно превышает текущие возможности технологии ASML.

В 2019 году команда успешно провела первую презентацию в Берлине, а в 2021 году опубликовала свои результаты в журнале Nature. В 2022 году был разработан новый прототип на базе Университета Цинхуа. Профессор Пан Жилунг отметил, что ключевые технологии почти готовы к применению.

В феврале текущего года на специальном совещании в Сионгане обсуждалось, как культивировать технологические компании в новом районе. Представители проекта также посетили Сионган для выбора места для будущего строительства.

Созданная технология может помочь Китаю избежать будущих санкций, хотя конкретный прогресс создания литографической машины на основе SSMB пока не раскрывается. Профессор Тан подчеркнул, что независимая разработка EUV-литографических машин на основе источников света SSMB открывает альтернативу санкционным технологиям, но для этого требуется продолжительное технологическое инновационное сотрудничество с отраслью.